以光波干涉原理為基礎，利用平晶(jing)的(de)(de)側臉面與檢測產(chan)品的(de)(de)被(bei)測量面之間出現的(de)(de)干涉條紋(wen)來(lai)測量檢測產(chan)品被(bei)測量面的(de)(de)平面度，以達到(dao)客(ke)戶所要求的(de)(de)光帶

平(ping)(ping)(ping)(ping)面(mian)(mian)(mian)(mian)平(ping)(ping)(ping)(ping)品是以(yi)(yi)光波干(gan)涉原理為(wei)基礎，利用(yong)平(ping)(ping)(ping)(ping)晶(jing)的(de)測(ce)量(liang)(liang)面(mian)(mian)(mian)(mian)與試件(jian)的(de)被測(ce)量(liang)(liang)面(mian)(mian)(mian)(mian)之間所(suo)出(chu)現(xian)的(de)干(gan)涉條紋來測(ce)量(liang)(liang)被測(ce)量(liang)(liang)面(mian)(mian)(mian)(mian)的(de)平(ping)(ping)(ping)(ping)面(mian)(mian)(mian)(mian)度。平(ping)(ping)(ping)(ping)面(mian)(mian)(mian)(mian)平(ping)(ping)(ping)(ping)品用(yong)于檢定(ding)量(liang)(liang)塊的(de)研合性和(he)平(ping)(ping)(ping)(ping)面(mian)(mian)(mian)(mian)度以(yi)(yi)儀器和(he)量(liang)(liang)具的(de)測(ce)量(liang)(liang)面(mian)(mian)(mian)(mian)、工作(zuo)面(mian)(mian)(mian)(mian)的(de)平(ping)(ping)(ping)(ping)面(mian)(mian)(mian)(mian)度。亦(yi)可用(yong)于定(ding)高(gao)精度的(de)平(ping)(ping)(ping)(ping)面(mian)(mian)(mian)(mian)零件(jian)，例如，平(ping)(ping)(ping)(ping)面(mian)(mian)(mian)(mian)光學零件(jian)、高(gao)級(ji)平(ping)(ping)(ping)(ping)臺、平(ping)(ping)(ping)(ping)板、導軌、密(mi)封件(jian)等。平(ping)(ping)(ping)(ping)面(mian)(mian)(mian)(mian)平(ping)(ping)(ping)(ping)晶(jing)特(te)別(bie)適用(yong)于計(ji)量(liang)(liang)單位(wei)、實(shi)驗室作(zuo)為(wei)標(biao)準平(ping)(ping)(ping)(ping)面(mian)(mian)(mian)(mian)和(he)樣板。

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